EUV（Extreme Ultraviolet、極端紫外線）とは、波長13.5nmの非常に短い光のことです。半導体業界で「EUV」と言えば、この光を使ってシリコンウェハーに回路パターンを焼き付けるEUV露光（リソグラフィ）装置を指すのが一般的で、最先端チップの微細な回路を少ない工程で作るための中核技術です。
EUVとは：DUVとの違い
露光とは、マスク（回路の原版）のパターンを光でウェハーに写す工程です。使う光の波長が短いほど、細かいパターンを描けます。EUVより前から主流だったDUV（深紫外線）露光は、ArFレーザーの193nmの光を使います。EUVの波長はその10分の1以下です。
DUVでも、1つの層を何回かに分けて露光する「多重パターニング」を使えば微細な回路は作れます。ただし工程が増えます。当サイトで紹介した Tom's Hardware の記事によると、中国は EUV を使わずに先端チップを製造できているものの、多重パターニングのためにチップの面積が大きくなり、歩留まりが下がり、製造期間も長くなって、コストが膨らみ続けています。つまり EUV の価値は「微細な回路を描けるかどうか」だけでなく、「少ない工程で、安く安定して描けるか」にあります。
使い方：誰が、何に使うのか
EUV はソフトウェアやクラウドサービスではなく、半導体工場（ファブ）に置かれる製造装置です。エンジニアが API のように呼び出して使うものではありません。直接使うのは、最先端プロセスでチップを製造するファウンドリやメモリメーカーです。
ソフトウェアエンジニアや事業会社の企画・DX担当にとって、EUV との関わりは間接的です。最先端プロセスで作るチップ（高性能なプロセッサや AI 向けの半導体など）をどれだけ作れるか、いくらで作れるかに影響します。自社で EUV を「導入する」場面はなく、調達するチップの供給量や価格を通じて影響を受ける、と考えるのが実態に合います。
料金：価格はいくらか
EUV 露光装置は、個人や一般の事業会社が購入・利用するものではありません。装置の具体的な価格は当サイトの参考記事では扱っていないため、この記事では金額を書きません。
事業会社の視点で押さえておくべきなのは、上で見た「EUV を使えない場合のコスト増」です。EUV を使わずに先端チップを作れば、面積・歩留まり・製造期間の面で不利になり、それがチップの原価に上乗せされます。
誰が作っているのか：メーカーと競合
EUV 露光装置を量産・出荷しているのは、オランダの ASML だけです。量産用 EUV 露光装置で ASML と直接競合する製品は、現時点では出てきていません。キヤノンやニコンも露光装置を作っていますが、EUV 露光装置は量産していません。
新しい動きとして、当サイトでは中国のスタートアップが EUV 光源の試作機をデモしたことを紹介しました。Tom's Hardware の見出しと記事 URL によると、出力は 15W、部品の 90% が国産で、実用化にはなお数年かかる見通しです。企業名や技術方式は確認できていません。また、この出力が量産に必要な水準とどれだけ離れているかは、参考記事からは判断できません。
投資家の視点で整理すると、EUV 露光装置は ASML が独占しており、中国は「DUV と多重パターニングで先端チップを作る（コスト高）」と「EUV 光源を自国で開発する（実用化は数年先）」の 2 つを並行して進めている、という構図です。後者がいつ量産装置にまでつながるかは、現時点の情報では分かりません。
