ASML（エーエスエムエル）は、オランダに本社を置く半導体製造装置メーカーで、シリコンウエハーに回路パターンを焼き付ける「露光装置（リソグラフィ装置）」を作っています。中でも、最先端のロジック半導体やメモリーの量産に使われるEUV（極端紫外線）露光装置は、量産機として出荷しているのが世界でASMLだけです。
ASMLとは：何を作っている会社か
半導体は、ウエハーに光を当てて微細な回路パターンを写し取る工程を何十回も繰り返して作ります。その「光で写す」装置が露光装置で、使う光の波長が短いほど細かいパターンを描けます。
ASMLの製品は大きく分けて、ArFやKrFといった深紫外線を使うDUV露光装置と、波長13.5nmの光を使うEUV露光装置の2つです。EUVは光源・反射光学系・真空環境のすべてが特殊で、装置1台が大型の設備規模になります。光源には子会社のCymer、光学系には独Carl Zeissの技術が使われています。さらに、解像度を上げた「High-NA EUV」と呼ばれる次世代機の開発・出荷も進めています。
使い方：エンジニアから見たASML
ASMLはソフトウェアやクラウドのサービスではありません。一般のエンジニアが契約して「使う」製品ではなく、ユーザーは半導体工場（ファブ）を運営するメーカーです。
ファブのエンジニアは、ASMLの装置を製造ラインに組み込み、露光条件の調整や重ね合わせ精度の管理、装置の保守をASMLのサポートを受けながら行います。半導体設計者やソフトウェアエンジニアにとっての意味は間接的で、「ASMLのEUV装置を持つファブでなければ、最先端プロセスのチップは作れない」という制約として関わってきます。
料金：いくらで買えるのか
定額の料金プランはありません。装置は1台単位の個別契約で販売され、価格は構成や契約条件によって変わります。本記事では1台あたりの具体的な金額は扱いません（公式の価格表がなく、推測で書けないため）。言えるのは、EUV装置は半導体製造装置の中でも特に高価な部類で、導入できるのは大規模な投資ができる半導体メーカーにほぼ限られる、ということです。
事業会社の企画・DX担当者がASMLを直接調達する場面は、まずありません。関わるとすれば、サプライチェーンのリスクや、最先端半導体の供給力を左右する要因として見る場合です。
誰が作り、競合は何か：投資家向けの整理
ASMLの株式はユーロネクスト・アムステルダムと米NASDAQに上場しています（ティッカーはASML）。主要顧客は、TSMC、Samsung、Intelといった先端半導体メーカーです。
競合は分野によって異なります。DUVや、より古い世代の露光装置では、日本のニコンとキヤノンが競合です。一方、EUVでは量産機を出荷している競合がおらず、この独占的な立場がASMLの企業価値の中心になっています。ただし、オランダ政府の輸出規制によって中国向けの先端装置の出荷が制限されており、地政学が業績を左右するリスク要因になっています。
最近の動き
当サイトで扱った報道（いずれもTom's Hardwareによるもの）を2つ紹介します。
1つ目は、イーロン・マスク氏が進める半導体工場「Terafab」が、ASMLから最初のEUV装置を2027年半ばに受け取る見通しだというものです。施設の完成を待つ間、装置がしばらく稼働しないまま置かれる可能性もあると伝えられています。導入台数や稼働計画は分かっていません。
2つ目は、ASMLが2026年に欧州で「まったく何も売れていない」と述べたというものです。EUに域内需要づくりへの支援を求めた発言とみられますが、これは記事のURLから読み取れる範囲の推測で、発言の場や具体的な数字はまだ明らかになっていません。
