Applied、50億ドルを投じR&D施設を開設 半導体開発の加速狙う

EE Times Japan が報じたところでは、Applied が 50 億ドルを投じた研究開発（R&D）施設を開設した。半導体の開発を加速させることが目的とされる。

入手できているのは見出しのみで、施設の所在地、規模、導入される装置、利用する顧客や研究機関は確認できていない。半導体の微細化や新しいトランジスタ構造、先端パッケージングの開発では、材料や製造プロセスを試作・評価するための設備が欠かせない。製造装置メーカーが自前で大規模な開発拠点を持つことで、半導体メーカーと共同で新技術を検証し、量産までの期間を短くすることを狙っているとみられる。

AI 向け半導体の需要が拡大するなか、先端プロセスの開発競争は激しさを増している。装置メーカーによる大型の研究開発投資は、次世代の製造技術を誰がどれだけ早く実用化できるかに影響を与える動きとして注目される。