研究チーム、次世代チップに向けた2D半導体の成長を制御する手法を解明

研究者らが、次世代チップ向けの2D半導体の成長を制御する方法を解明したと、英The Registerが報じた。研究を行った機関や論文の掲載先、具体的な手法は、見出しからは分からない。

2D半導体は、原子数層ほどの厚さしかない薄膜状の半導体材料を指す。シリコンのトランジスタは微細化が進むほど、電流の漏れなどの問題が大きくなる。極めて薄い材料をチャネルに使えば、微細化をさらに進められる可能性があるとして、研究が続けられてきた。

一方で、こうした材料を大きな面積で、欠陥を抑えながら均一に成長させることは難しく、量産に向けた壁の一つとされる。今回の「成長を制御する」という成果は、この製造面の課題に取り組むものとみられる。

ただし、研究段階の成果が製品に使われるまでには、通常は長い時間がかかる。成果の詳細や、どの程度の規模・品質で成長を制御できたのかは、出典で確認してほしい。