キヤノン、26年Q3はメモリ向け装置が好調。NILの検証も進展

キヤノンの2026年第3四半期の業績で、メモリ向けの半導体製造装置が好調だった。EE Times Japanが伝えた。

見出しによると、同社が手がけるナノインプリントリソグラフィ（NIL）についても、検証が進んでいるという。NILは、回路パターンを刻んだ型（モールド）をウエハー上の樹脂に押し当てて転写する方式で、光でパターンを焼き付ける従来の露光とは異なるアプローチをとる。

今回の材料は記事の見出しのみで、業績の具体的な数字、どの種類のメモリ向けの装置が伸びたのか、NILの検証をどの顧客とどの段階まで進めているのかは確認できていない。

メモリ向けの装置が好調な背景には、AI需要を受けたメモリメーカーの設備投資があるとみられる。同じ日にはSK hynixがメモリ不足が2030年まで続くとの見通しを示したとも報じられており、メモリ増産に向けた投資は当面続く可能性がある。NILの検証が量産の採用につながるかどうかは、露光装置の市場における同社の立ち位置を左右するテーマになる。