Intel、アリゾナのFab 62に製造装置を導入 オハイオの状況も説明

Tom's Hardware が報じたところでは、Intel はアリゾナ州の Fab 62 に製造装置を設置した。同時に、オハイオ州の工場についての最新状況も示している。記事の URL には、High-NA EUV を 2028 年に大量生産へ使うことを確認したとの内容も含まれている。

手元にあるのは見出しと URL のみで、Fab 62 でどの製造プロセスを使うのか、いつ本格稼働するのか、オハイオの工場計画がどう変わったのか、あるいは変わっていないのかは確認できていない。

製造装置の設置は、建屋が完成した工場を実際に動かすための前段階にあたる。一般に、装置を据え付けたあとも調整や試作を経てから量産に移るため、稼働まではなお時間がかかるとみられる。

High-NA EUV は、より細かい回路パターンを焼き付けるための次世代の露光技術で、先端プロセスの微細化を進めるうえで鍵になる装置の一つとされる。これを大量生産で使う時期を示したことは、Intel が先端プロセスの製造計画を具体的に描いていることを示すとみられる。今後は、各工場の稼働時期と、受託製造の顧客をどれだけ集められるかが注目点になる。