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Tower Semiconductor、40億ドル日本投資で大規模光チップ拠点
英Data Center Dynamicsによると、イスラエルの半導体受託製造Tower Semiconductorは、40億ドル規模の日本関連の投資表明の一環として、大規模な光チップ(光半導体)の拠点を設ける。拠点の所在地や稼働時期、生産品目の詳細は現時点で分かっていない。

英Data Center Dynamicsは、Tower Semiconductorが大規模な光チップの拠点を設立すると報じた。見出しによれば、これは40億ドル規模の日本に関する投資表明の一環という位置づけだ。
現時点で入手できているのは見出しの情報だけで、拠点の所在地、生産開始の時期、投資額のうち光チップ拠点に充てる割合、想定する顧客などは分かっていない。見出しの書きぶりから、拠点は日本国内に置かれるとみられる。
光チップは、データセンター内のサーバー間やラック間を光信号でつなぐトランシーバーなどに使われ、AI向けの大規模クラスターで需要が伸びている分野だ。データセンター専門メディアが取り上げていることからも、AIインフラ向けの光接続部品を念頭に置いた投資とみられる。
出典 — Data Center Dynamics
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